Çok yüksek bağlanma dayanımı
Az sayıda komponent,az sayıda işlem basamağı ile kullanım kolaylığı
Hem self-etch,hem selektif mine etchinglemesi,hem de total-etch yaklaşımla kullanılabilir.
Yüksek marjinal bütünlük,yüksek estetik ve dişe yakın floresan
Amin içermeyen formülasyonu ile renk stabilitesi
Yüksek aşınma direnci
Değişen klinik durumlar için neme yüksek tolerans